1、氣相法：包括物理氣相沉積法與化學(xué)氣相沉積法。氣相法適用于大面積器件的制備，同時(shí)可以避免旋涂法制備過程中有毒溶劑的使用。另一方面，由于控制前驅(qū)體的相對(duì)比例并非易事，氣相法對(duì)設(shè)備性能提出較高要求，高質(zhì)量膜層的制備難度較高

2、旋涂法：旋涂法工藝相對(duì)簡單，為目前主流的鈣鈦礦吸光層制備方法。按照步驟的不同可進(jìn)一步分為一步法、兩步法。其中，一步法指將鈣鈦礦的原料全部加入溶劑中，完全溶解后形成前驅(qū)溶液，前驅(qū)體溶液旋涂于基板上，溶劑在高速旋轉(zhuǎn)中揮發(fā)，溶質(zhì)留在基板上結(jié)晶形成鈣鈦礦薄膜。

兩步法指，首先將PbX2溶于溶劑，旋涂在基底上成膜；然后將PbX2浸泡在溶液中或再次旋涂于基板上，與PbX2膜反應(yīng)生成鈣鈦礦。